靶材保养：为避免在溅射过程中因为不洁净的腔体导致短路和起弧，有必要阶段性的除去溅射轨道中间及两侧堆积的溅射物，这也有助于用户可以连续以大功率密度进行溅射。
靶材储存：我们建议用户将靶材无论是金属或陶瓷类保存在真空包装中， 尤其是贴合靶材更需要保存在真空条件下，纯银导电辊厂家，以避免贴合层氧化影响贴合质量。对于金属靶材的包装，我们建议少需要包装在洁净的塑料袋中。
铪，金属Hf，原子序数72，纯银导电辊哪家好，原子量178.49，熔点高，与锆共存。是一种带光泽的银灰色的过渡金属。有金属光泽;金属铪有两种变体:α铪为六方密堆积变体(1750℃)，其转变温度比锆高。金属铪在高温下有同素异形变体存在。具有塑性的金属，当有杂质存在时质变硬而脆。空气中稳定，灼烧时仅在表面上发暗。细丝可用火柴的火焰点燃。性质似锆。不和水、稀酸或强碱作用，但易溶解在王水中。在化合物中主要呈 4价。
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，纯银导电辊报价，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”， 8“发展到12”， 而布线宽度由0.5um减小到0.25um，青海纯银导电辊，0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
杂质含量：靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和性元素含量都有特殊要求。
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