磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，纯银导电辊，其速率也快。
而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。溅射靶材射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
复合材料两种或多种不同种类的相容性材料用物理方法合成的具有多相结构的材料。美国克雷德(K．G．Kreider)指出其特点为：(1)其组成由人为选定和设计。(2)是人工制造的而不是天然的。(3)至少含有两种独立的不同的相。(4)其性能取决于每一组成相的性能。(5)其组元具有重复的几何形状，以致在宏观上可以认为材料是均匀的。(6)具有单个组元材料不具有的优良性质。
控溅射镀膜是一种物li气相镀膜方式，现技术已较为成熟，纯银导电辊哪家好，主要应用于以下领域：装饰薄膜靶材，建筑玻璃、汽车玻璃、低辐射玻璃，平面显示器，光通讯/光学工业，哪里有纯银导电辊，光数据存储工业，光数据存储工业，磁数据存储工业。
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